嚴友亨2001年出生於新北，目前就讀於國立臺灣藝術大學美術系碩士班，2024年獲得世安美學獎(造型藝術類) 。以繪畫創作為主的他，近期創作關注影像過度曝光與失焦下的畫面表現，並嘗試用畫筆留下這些不尋常的視覺效果，將我們日常熟悉的場景透視影像與繪畫之間的轉譯出新的視角。
創作自述
最初使用底片相機意外的拍攝出一張隔著玻璃，顯現出有些曝光、失焦、朦朧的相片，從而開始思考這個意外所產生的意義。一般來說，過度曝光、失焦的相片，對攝影而言是常被視為失敗的照片，但我卻被這些不尋常的視覺效果所迷戀著。有別於過往的創作專注於表現觀看當下所感受到的情感，這個階段我開始思考要將這意外所產生的視覺效果呈現出來，讓畫面變得有些陌生，並散發更多的奇異感，將這些日常熟悉的場景透過繪畫詮釋出新的視角。
這次展出的畫作，是針對先前思考的內容進行延伸。描繪許多日常收集的素材（照片），不論是些微曝光、模糊、晃動、褪色、反光的狀態，都透過繪畫行為來轉換和呈現。將不同素材中所感受、體會到對於不同狀態之下光線的表現傳達出來，不論是較為熾熱讓人感受到溫暖的光線，抑或是較為清冷光線下讓人感受到些微距離的畫面。經由刻意的凸顯與改變原先的狀態，試圖將這些元素抓取並放大其感受，擴展、強化這些感知。而最終這些繪畫中所產生的某種靜謐、緩慢的節奏，則讓觀者能夠更長時間地停留沈浸於作品當中。